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MOCVD全称是Metal-Organic Chemical Vapour Deposition（金属有机化学气相沉积设备），是在基板上生长半导体薄膜的一种技术。利用MOCVD技术，许多纳米层可以以极高的精度沉积，每一层都具有可控的厚度，以形成具有特定光学和电学特性的材料。
中微公司专注于研发干法刻蚀（等离子体刻蚀）设备，用于在晶圆上加工微观结构。干法刻蚀通过等离子释放带正电的离子来撞击晶圆以去除（刻蚀）材料。根据所要去除材料和加工器件结构的不同，可分为电介质刻蚀、导体刻蚀和硅通孔刻蚀。
现在的制造生产线上应确保不出现任何疏漏。这适用于设备、工艺、专业技能和其他所有能够使制造流程的效率最大化并控制成本的要素。确保生产车间内的空气清洁、健康且无有害颗粒也同样重要。
中微公司发布用于深紫外LED量产的MOCVD设备Prismo HiT3™
中国，上海2020年7月30日——中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，上交所股票代码：688012）今日宣布推出Prismo HiT3TM MOCVD设备，主要用于深紫外LED量产。
30 Jul 2020
中微半导体设备（上海）股份有限公司宣布公司荣获由上海市政府和世界知识产权组织（WIPO）首次联合颁发的首届上海市知识产权创新奖（保护类）。
22 Oct 2019
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