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MOCVD全称是Metal-Organic Chemical Vapour Deposition（金属有机化学气相沉积设备），是在基板上生长半导体薄膜的一种技术。利用MOCVD技术，许多纳米层可以以极高的精度沉积，每一层都具有可控的厚度，以形成具有特定光学和电学特性的材料。
中微公司专注于研发干法刻蚀（等离子体刻蚀）设备，用于在晶圆上加工微观结构。干法刻蚀通过等离子释放带正电的离子来撞击晶圆以去除（刻蚀）材料。根据所要去除材料和加工器件结构的不同，可分为电介质刻蚀、导体刻蚀和硅通孔刻蚀。
现在的制造生产线上应确保不出现任何疏漏。这适用于设备、工艺、专业技能和其他所有能够使制造流程的效率最大化并控制成本的要素。确保生产车间内的空气清洁、健康且无有害颗粒也同样重要。
中微半导体设备（上海）股份有限公司2021年11月02日迎来了一个重要的里程碑：中微公司的电容耦合高能等离子体（CCP）刻蚀设备第1500个反应台顺利付运国内一家领先的半导体制造商。
2 Nov 2021
2021年10月22日上午，中微半导体设备（上海）股份有限公司临港总部和研发基地项目开工仪式在临港新片区项目现场举行。临港新片区管委会领导、中微公司管理层和各参建单位代表共同出席了本次开工仪式。
22 Oct 2021
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