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MOCVD全称是Metal-Organic Chemical Vapour Deposition（金属有机化学气相沉积设备），是在基板上生长半导体薄膜的一种技术。利用MOCVD技术，许多纳米层可以以极高的精度沉积，每一层都具有可控的厚度，以形成具有特定光学和电学特性的材料。
中微公司专注于研发干法刻蚀（等离子体刻蚀）设备，用于在晶圆上加工微观结构。干法刻蚀通过等离子释放带正电的离子来撞击晶圆以去除（刻蚀）材料。根据所要去除材料和加工器件结构的不同，可分为电介质刻蚀、导体刻蚀和硅通孔刻蚀。
现在的制造生产线上应确保不出现任何疏漏。这适用于设备、工艺、专业技能和其他所有能够使制造流程的效率最大化并控制成本的要素。确保生产车间内的空气清洁、健康且无有害颗粒也同样重要。
中微半导体设备（上海）股份有限公司宣布公司荣获由上海市政府和世界知识产权组织（WIPO）首次联合颁发的首届上海市知识产权创新奖（保护类）。
22 Oct 2019
中微公司董事长尹志尧博士在2019人工智能大会长三角工业互联网高峰论坛上发表主题演讲
中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）董事长兼总经理尹志尧博士受邀在“2019世界人工智能大会”长三角工业互联网高峰论坛上发表了题为《从微观加工为基础的数码时代展望第三代工业革命的到来》的主题演讲。
31 Aug 2019
中微半导体设备（上海）股份有限公司在VLSIresearch发布的关于2019年度客户满意度调查中首次荣膺三项桂冠。中微是CSS历史上第一家获得三项桂冠荣誉的中国本土公司。
2 Aug 2019
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