Primo SSC AD-RIE ® 是中微於2013年推出的单眼應臺電介質刻蝕產品，在Primo AD-RIE ® 產品技術和Primo平臺概念的基礎上，通過在一個平臺上集成六個單反應臺以優化產能。 除了可獨立輸運氣體的单眼應臺腔體設計以外，為應對2x納米以下特別是接觸孔刻蝕等關鍵制程的挑戰，該設備還具有以下特性：同步脈衝射頻系統、可冷卻聚焦環工藝組件和甚低壓氣體抽運系統等。 Primo SSC AD-RIE有利於處理多層薄膜刻蝕的微負載問題、極端邊緣形貌問題以及接觸孔刻蝕的終端控制問題。 Primo SSC AD-RIE已在主流客戶16納米晶片生產線上穩定量產。