第1500个CCP刻蚀设备反应台顺利付运

中微完成再融资发行，共募资82亿元

发布用于高性能Mini-LED量产的MOCVD设备Prismo UniMax®

首台8英寸CCP刻蚀设备Primo AD-RIE 200™顺利付运

中微半导体设备产业化项目签约落户上海自贸试验区临港新片区“东方芯港”集成电路综合性产业基地

发布用于深紫外LED量产的MOCVD设备Prismo HiT3®

成为科创板首批上市公司之一

中微在美国VLSIresearch举办的全球客户满意度调查中连续排名前列，综合评分全球第三，是五个被评为五星级企业之一

完成股份公司整体变更

中微在美国VLSIresearch举办的全球客户满意度调查中荣登上榜，在全球晶圆制造设备供应商中排名第三，是唯一一家上榜的中国本土半导体设备公司

中微第100台MOCVD Prismo A7®反应腔付运里程碑

中微刻蚀设备进入国际先进7纳米生产线

首台双反应台ICP刻蚀设备产品研制成功

首台单反应台ICP刻蚀设备产品研制成功，并运往国内客户

中微7纳米介质刻蚀设备研制成功

首台第二代MOCVD设备产品研制成功，并运往国内客户

首台VOC设备产品研制成功，并运往国内客户

中微14纳米介质刻蚀设备研制成功

中微、国家集成电路产业投资基金和苏州聚源东方完成对拓荆投资

中微反应台交付量突破400台

由于中微等离子体刻蚀机的成功研发和量产，美国商务部取消了等离子体刻蚀机对中国的出口控制

《国家集成电路产业发展推进纲要》发布后，中微成为第一家“大基金”投资的企业

中微22纳米介质刻蚀设备研制成功

首台MOCVD设备产品研制成功，并运往国内客户

二期新厂房22,000平方米落成启用

中微45纳米介质刻蚀设备研制成功

首台TSV/MEMS/Dicing刻蚀设备产品研制成功，并运往客户

中微公司一

首台CCP刻蚀设备产品研制成功，并运往国内客户

一期新厂房6,500平方米落成启用

在张江高科技园区启动运营