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  • 2021年

    2021-11

    第1500个CCP刻蚀设备反应台顺利付运

    2021-06

    中微完成再融资发行,共募资82亿元

    2021-06

    发布用于高性能Mini-LED量产的MOCVD设备Prismo UniMax®

    2021-06

    首台8英寸CCP刻蚀设备Primo AD-RIE 200™顺利付运

  • 2020年

    2020-10

    中微半导体设备产业化项目签约落户上海自贸试验区临港新片区“东方芯港”集成电路综合性产业基地

    2020-07

    发布用于深紫外LED量产的MOCVD设备Prismo HiT3®

  • 2019年

    2019-07

    成为科创板首批上市公司之一

    2019-05

    中微在美国VLSIresearch举办的全球客户满意度调查中连续排名前列,综合评分全球第三,是五个被评为五星级企业之一

  • 2018年

    2018-12

    完成股份公司整体变更

    2018-05

    中微在美国VLSIresearch举办的全球客户满意度调查中荣登上榜,在全球晶圆制造设备供应商中排名第三,是唯一一家上榜的中国本土半导体设备公司

  • 2017年

    2017-10

    中微第100台MOCVD Prismo A7®反应腔付运里程碑

    2017-07

    中微刻蚀设备进入国际先进7纳米生产线

    2017-04

    首台双反应台ICP刻蚀设备产品研制成功

  • 2016年

    2016-11

    首台单反应台ICP刻蚀设备产品研制成功,并运往国内客户

    2016-08

    中微7纳米介质刻蚀设备研制成功

    2016-06

    首台第二代MOCVD设备产品研制成功,并运往国内客户

    2016-02

    首台VOC设备产品研制成功,并运往国内客户

    2016-01

    中微14纳米介质刻蚀设备研制成功

  • 2015年

    2015-12

    中微、国家集成电路产业投资基金和苏州聚源东方完成对拓荆投资

    2015-07

    中微反应台交付量突破400台

    2015-02

    由于中微等离子体刻蚀机的成功研发和量产,美国商务部取消了等离子体刻蚀机对中国的出口控制

  • 2014年

    2020-09

    《国家集成电路产业发展推进纲要》发布后,中微成为第一家“大基金”投资的企业

  • 2013年

    2013-12

    中微22纳米介质刻蚀设备研制成功

  • 2012年

    2012-11

    首台MOCVD设备产品研制成功,并运往国内客户

    2012-10

    二期新厂房22,000平方米落成启用

  • 2011年

    2011-09

    中微45纳米介质刻蚀设备研制成功

  • 2010年

    2010-06

    首台TSV/MEMS/Dicing刻蚀设备产品研制成功,并运往客户

  • 2008年

    2020-09

    中微公司一

  • 2007年

    2007-06

    首台CCP刻蚀设备产品研制成功,并运往国内客户

  • 2005年

    2005-09

    一期新厂房6,500平方米落成启用

  • 2004年

    2004-08

    在张江高科技园区启动运营

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  • 2019

  • 2018

  • 2017

  • 2016

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  • 2014

  • 2013

  • 2012

  • 2011

  • 2010

  • 2008

  • 2007

  • 2005

  • 2004

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