作为中微公司自主研发的具备三维填充能力的12英寸原子层金属钨沉积设备，Preforma Uniflex®AW继承了钨系列产品的特点，可配置五个双反应台反应腔，有效提高设备生产效率。此外，系统中每个反应腔均可用于形核和主体膜层生长，可根据客户实际工艺需求优化配置，进一步提高生产中的设备利用率。Preforma Uniflex®AW采用完全自主知识产权的高速气体切换控制系统，可精准控制工艺过程，实现精准的原子级别生长，因此所生长膜层具备优异的台阶覆盖率和低杂质浓度的优点。Preforma Uniflex®AW还引入独特的气体输送系统，进一步提升性能，使该设备具备更先进技术节点的延展能力。该设备也继承了中微公司自主开发的流场热场优化设计，从而提升薄膜均一性和工艺调节灵活性。