Preforma Uniflash®TiN是中微自主研发的12英寸原子层沉积产品，可满足先进逻辑和先进存储器件金属栅应用需求，也可满足阻挡层等应用需求。该产品继承中微独特的双反应台设计，系统可灵活配置多达五个双反应台反应腔(十个反应台),可有效满足高真空工艺集成需求的同时，可以达到业界领先的生产率。该产品通过中微专利的多级匀气混气设计，基于模型算法的加热系统设计和可实现高效原子层沉积反应的反应腔流导设计等，可满足先进逻辑客户性能需求的同时，设备的薄膜均一性，污染物控制和生产效率均达到世界先进水平。