





Preforma Uniflash®TiAl是中微自主研发的12英寸原子层沉积产品,可满足先进逻辑器件金属栅应用需求。该产品继承中微独特的双反应台设计,系统可灵活配置多达五个双反应台反应腔(十个反应台),可有效满足高真空工艺集成需求的同时,可以达到业界领先的生产率。该产品采用中微自主开发的温度控制系统设计,独特的表面处理技术,多区气体分布系统设计和基于模型算法的加热系统设计等,可满足先进逻辑客户性能需求的同时,设备的污染物控制,薄膜均一性,生产效率均达到世界先进水平。

中微自主研发的12英寸原子层沉积产品,可满足先进逻辑器件金属栅应用需求。
双反应台及多达五个反应腔的高真空系统设计
独特的温度控制系统设计
多区气体分布系统设计
基于模型控制的加热系统设计
高生产效率,低生产成本(CoO)
优异的污染物控制
更好的薄膜均一性和薄膜间均一性
每个维护周期的晶圆数目大大增加

