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新闻发布


中微、国家集成电路产业投资基金和苏州聚源东方完成对拓荆投资 12/2015

中微半导体设备有限公司、 国家集成电路产业投资基金股份有限公司和苏州聚源东方投资基金中心宣布已完成对沈阳拓荆科技有限公司的投资,投资总额为2.7亿元人民币。本轮投资之后,三方将成为拓荆的重要股东。

中微反应台交付量突破400台 7/2015

具有里程碑意义的第400个反应台交付台湾领先客户;400个反应台(100台系统设备)包括电介质刻蚀设备、硅通孔刻蚀设备和MOCVD设备

中微交付韩国领先存储器制造商用于3D VNAND闪存工艺的先进刻蚀机 7/2015

中微半导体设备有限公司宣布中微单反应台等离子体刻蚀设备已交付韩国领先的存储器制造商。

中微MOCVD设备在中国大陆和台湾地区需求日益增长 3/2015

在即将于台北南港展览馆举办的LED Taiwan 2015展会上(3月25日至3月28日),中微的MOCVD技术专家将与公众分享中微的较新技术(中微展台号:N0208)

中微28到15纳米等离子体刻蚀机荣获工博会金奖 11/2014

蝉联工博会奖项,彰显十年发展成果

中微刻蚀机获得韩国先进存储芯片客户重复订单 2/2014

中微半导体设备有限公司宣布获得韩国先进存储芯片生产厂商购买Primo SSC AD-RIE(TM)的重复订单。该设备被客户认可为用于16纳米关键闪存芯片加工的首选设备(PTOR),将用于大批量芯片生产。

中微确立存储芯片干法刻蚀领域市场地位 4/2013

中微半导体设备有限公司已研发成功第二代单反应台等离子体刻蚀设备(Primo SSC AD-RIE(TM))。该设备能够用于加工要求最为严格的半导体器件。中微这款新刻蚀产品延续了Primo D-RIE(R)的创新性。

中微公司首次进入半导体照明市场 3/2013

在下周即将举行的SEMICON China展会期间,中微半导体设备(上海)有限公司将正式发布多反应器金属有机化合物气相沉积设备(MOCVD),并首次进入半导体照明市场。目前,中微已有MOCVD设备在国内一家著名的LED厂家运行。

中微公司任命陈伟文先生为副总裁兼首席财务官 10/2012

中微公司新任命前阿特斯太阳能有限公司高管陈伟文先生出任副总裁兼首席财务官,陈伟文先生将在中微公司主要负责预算管理、财务管理、风险控制、内审及投资者关系等,并直接向首席执行官汇报。

中微公司将发布新一代等离子刻蚀设备 10/2012

IC China对国内外的技术专家和企业领导人具有极大的吸引力,同时为半导体制造前沿技术的深入讨论提供了平台。中微新一代刻蚀设备都具有领先的独特创新,能够解决随着技术进步和材料深度整合出现的新的技术障碍。

中微等离子体刻蚀设备 Primo AD-RIE(TM) 运抵中芯国际 3/2012

中微半导体设备有限公司宣布,中微第二代等离子体刻蚀设备 Primo AD-RIE™ 正式装配国内技术先进的集成电路芯片代工企业中芯国际,用于32纳米至28纳米及更先进的芯片加工。Primo AD-RIE™ 设备首次进入大陆客户生产线。

中微推出用于3D芯片及封装的硅通孔刻蚀设备Primo TSV200E(TM) 3/2012

三维芯片及晶圆级封装设备的市场规模今年将达到7.88亿美元,2016年将攀升至24亿美元。TSV刻蚀设备将占据市场份额的一大部分,而其中的强劲需求多来自于中国企业。

中微公司发布用于22纳米及以下芯片加工的下一代刻蚀设备 7/2011

Primo AD-RIE™ 实现了技术创新和生产力提高的最优化