MOCVD全称是Metal-Organic Chemical Vapour Deposition（金属有机化学气相沉积设备），是在基板上生长半导体薄膜的一种技术。利用MOCVD技术，许多纳米层可以以极高的精度沉积，每一层都具有可控的厚度，以形成具有特定光学和电学特性的材料。MOCVD是用于LED芯片和功率器件制造的关键工艺技术。

中微公司在MOCVD领域有非常深厚的技术积累。公司于2013年发布了第一代MOCVD设备 PRISMO D-BLUE®，由于其较高的灵活性和生产效率、优异的性能以及简便易行的设备维护，中微的MOCVD设备快速获得了客户的认可和信任。

2016年，中微发布了其第二代MOCVD设备 PRISMO A7®。在 PRISMO D-BLUE的基础上，PRISMO A7增加了一些新的特征，以进一步提升生产效率和加工性能。该设备已应用于国内众多领先的LED生产线。

中微具有自主知识产权的MOCVD设备PRISMO HiT3®，是适用于高质量氮化铝和高铝组分材料生长的关键设备。
在不到三年的时间里，中微已经在全球氮化镓基LED MOCVD设备市场占据领先地位。