中微半导体设备有限公司（AMEC）宣布中微在由美国泛林科技在台湾针对中微关联公司提起的诉讼中再次取得了胜利。
2011年12月29日，台湾智慧财产法院（“IP Court”）作出判决，维持了由台湾经济部智慧财产局（“TIPO”）作出的不利于泛林科技的决定。台湾智慧财产法院在判决中支持了台湾经济部智慧财产局的立场，宣布泛林科技的专利号为126873的台湾专利（聚焦环装置专利）由于缺乏新颖性和创造性而无效，因而无法构成指控中微侵权的依据。
法庭的宣判标志着中微在泛林科技指控中微专利侵权的纠纷案中第四次取得了重大胜利，并且进一步证明了中微在全球范围内尊重知识产权的坚定承诺。
中微公司首席执行官尹志尧博士说道：“在泛林科技针对中微 Primo D-RIE® 产品的核心技术领域发起的专利侵权诉讼中，中微再一次有力地澄清了指控。尽管有泛林科技法律诉讼的干扰，但中微的业务仍然稳步发展。客户正在进一步认识到中微可单台独立操作的双台反应器刻蚀机设备独特的设计、稳定的性能和成本上的显著优势。我们的首要任务是，通过提供较佳的刻蚀设备，帮助客户达到日益增强的、更有挑战性的技术指标。”
关于中微半导体设备有限公司
公司致力于为全球芯片生产厂商和相关高科技领域的世界领先公司提供一系列高端的芯片生产设备。客户正是运用了中微先进的刻蚀设备和技术，制造了电子产品中最为关键的芯片器件。中微的高端设备在65、45、32、28、22纳米及以下的芯片生产领域实现了技术创新和生产力提高的最优化。中微公司以亚洲为基地，总部位于中国上海，其研发、制造、销售和客户服务机构遍布日本、南韩、中国台湾、新加坡等地。
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Primo D-RIE为中微公司注册商标。
