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  • 2021年

    2021-11

    第1500個CCP刻蝕設備反應臺順利付運

    2021-06

    中微完成再融資發行,共募資82億元

    2021-06

    發佈用於高性能Mini-LED量產的MOCVD設備Prismo UniMax ®

    2021-06

    首臺8英寸CCP刻蝕設備Primo AD-RIE 200 ™ 順利付運

  • 2020年

    2020-10

    中微電晶體設備產業化項目簽約落戶上海自貿試驗區臨港新片區“東方芯港”集成電路綜合性產業基地

    2020-07

    發佈用於深紫外LED量產的MOCVD設備Prismo HiT3 ®

  • 2019年

    2019-07

    成為科創板首批上市公司之一

    2019-05

    中微在美國VLSIresearch舉辦的全球客戶滿意度調查中連續排名前列,綜合評分全球第三,是五個被評為五星級企業之一

  • 2018年

    2018-12

    完成股份公司整體變更

    2018-05

    中微在美國VLSIresearch舉辦的全球客戶滿意度調查中榮登上榜,在全球晶圓製造設備供應商中排名第三,是唯一一家上榜的中國本土電晶體設備公司

  • 2017年

    2017-10

    中微第100臺MOCVD Prismo A7 ® 反應腔付運里程碑

    2017-07

    中微刻蝕設備進入國際先進7納米生產線

    2017-04

    首臺雙反應臺ICP刻蝕設備產品研製成功

  • 2016年

    2016-11

    首臺单眼應臺ICP刻蝕設備產品研製成功,並運往國內客戶

    2016-08

    中微7納米介質刻蝕設備研製成功

    2016-06

    首臺第二代MOCVD設備產品研製成功,並運往國內客戶

    2016-02

    首臺VOC設備產品研製成功,並運往國內客戶

    2016-01

    中微14納米介質刻蝕設備研製成功

  • 2015年

    2015-12

    中微、國家集成電路產業投資基金和蘇州聚源東方完成對拓荊投資

    2015-07

    中微反應臺交付量突破400臺

    2015-02

    由於中微电浆刻蝕機的成功研發和量產,美國商務部取消了电浆刻蝕機對中國的出口控制

  • 2014年

    2014-09

    《國家集成電路產業發展推進綱要》發佈後,中微成為第一家“大基金”投資的企業

  • 2013年

    2013-12

    中微22納米介質刻蝕設備研製成功

  • 2012年

    2012-11

    首臺MOCVD設備產品研製成功,並運往國內客戶

    2012-10

    二期新廠房22000平方米落成啟用

  • 2011年

    2011-09

    中微45納米介質刻蝕設備研製成功

  • 2010年

    2010-06

    首臺TSV/MEMS/Dicing刻蝕設備產品研製成功,並運往客戶

  • 2008年

    2020-09

    中微公司一

  • 2007年

    2007-06

    首臺CCP刻蝕設備產品研製成功,並運往國內客戶

  • 2005年

    2005-09

    一期新廠房6500平方米落成啟用

  • 2004年

    2004-08

    在張江高科技園區啟動運營

  • 2021

  • 2020

  • 2019

  • 2018

  • 2017

  • 2016

  • 2015

  • 2014

  • 2013

  • 2012

  • 2011

  • 2010

  • 2008

  • 2007

  • 2005

  • 2004

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